真空蒸發鍍膜法（簡稱真（zhēn）空蒸鍍法，Vacuum Evaporation) 是指在一定的真空條件下，利用高溫加熱蒸（zhēng）鍍材（cái）料（金（jīn）屬合金或金（jīn）屬氧化（huà）物）到一定溫度條件下， 

使其原子或（huò）分子從表麵汽化逸出，形成蒸汽流（liú），並飛（fēi）行濺射到玻璃基板表麵凝結形成固態薄膜的（de）方法。

由於真空蒸（zhēng）鍛法的主要物理過程是通過加熱蒸發材（cái）料而產生，所（suǒ）以（yǐ）又稱熱蒸發法（fǎ）。蒸發（fā）源（yuán）作為蒸發裝置的關鍵部件，

大多數蒸發材料都要求在1000-2000℃的（de）高（gāo）溫下蒸發。真空蒸鍍法按蒸發源的不同可分（fèn）為（wéi）電阻法、電子束蒸發法（fǎ）、高頻感應法和激光（guāng）蒸發（fā）法等。