通俗的定義為在正常（cháng）狀況下，其應用功能（néng）不會（huì）失效。

想要達到這個目的，一般而言這層薄膜必須具有堅（jiān）牢的附著力、很低的內應（yīng）力、針孔（kǒng）密度很少、夠強的機械性能、均勻的（de）膜厚、以及足夠（gòu）的抗化（huà）學侵蝕性。

薄膜的特性主要受到沉積過程、成膜條件、接口層的（de）形成和基材的（de）影響，隨後的熱（rè）處（chù）理亦扮演重要角色。 

沉積的薄膜有內應力的存在，其（qí）來源（yuán）為何? 

薄膜和基材之間的晶格失配 

薄膜和基材之間的熱膨脹係數差異 

晶界之間的互擠