磁控濺射真空鍍膜機需要（yào）鍍膜的被稱為基片，鍍的材料被稱為靶材。 基片與靶材（cái）同在真空腔（qiāng）中。蒸發鍍膜一般是加熱靶（bǎ）材使表麵組分以（yǐ）原子團或離子形式被（bèi）蒸發出來。並且沉降在基片表麵，通過成膜過程（散點－島狀結構-迷（mí）走結（jié）構-層狀生長）形成薄膜。 對於（yú）濺射類鍍膜，可以簡單理解（jiě）為利（lì）用電子或高能激光轟（hōng）擊靶材，並使表麵組分以原子團或離子形式被（bèi）濺射出來，並且最終沉積在基片表麵（miàn），經曆成膜過程，最終形成薄膜。

使用步驟：
電控櫃操作
1、開水泵、氣源。
2、開總電（diàn）源。
3、開維持泵、真（zhēn）空計電源（yuán），真空計檔位置V1位置，等待其值小於10後，再（zài）進入下一步操作。約需5分鍾。
4、開機械泵、預抽，開（kāi）渦輪分子泵電源、並啟動，真空計開關換到V2位（wèi）置，抽到（dào）小於2為（wéi）止，約需20分鍾。
5、觀察渦輪分子泵讀（dú）數到達250以後，關預抽，開前級泵（bèng）和高真空閥繼續抽真空（kōng），抽真空到達一定（dìng）程度後才能開右邊（biān）的（de）高真空表頭，觀察真空度。真空到（dào）達2×10-3以後才能打開電子槍（qiāng）電源。

DEF-6B操作：
1. 總（zǒng）電源。
2. 同時開電子槍控製Ⅰ和電子槍控（kòng）製Ⅱ電源：按電子槍控製Ⅰ電源、延時（shí）開關（guān），延時、電源（yuán）及保護燈亮，三分（fèn）鍾後延（yán）時及保護燈滅，若後（hòu）門（mén）未關好或水流繼電器有故（gù）障，保護燈會常（cháng）亮。
3. 開高壓，高壓會達到10KV以上，調節束流可（kě）到200mA左（zuǒ）右，簾柵為20V/100mA，燈絲電流（liú）1.2A，偏轉電流在1~1.7之（zhī）間擺動。

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