磁控濺（jiàn）射具有以下兩大優點：提高等（děng）離子密度，從而提高濺射速度（dù）；減少轟擊零件的電子數目，因而降低了基材因電子轟（hōng）擊的升溫。

因（yīn）此，該技術在薄膜技術中占有主導地位。磁（cí）控濺射陰極的最大缺點（diǎn）：使用平麵（miàn）靶材，靶材在跑道區（qū）形成濺射溝道，這溝道一旦貫穿靶材，則整塊（kuài）靶材即報廢，因（yīn）而靶材的利用率隻有20-30%。

不過，目前為了避免這（zhè）個缺點，很多靶材采用圓柱靶材形（xíng）式，靶材利用率得以大（dà）幅度提高。