對於真空鍍膜（mó）機設備的分類，到底了解多少（shǎo）？
真（zhēn）空鍍膜（mó）機主要指（zhǐ）一類需（xū）要在較高真空度下進行的鍍（dù）膜設備，包括真空離子（zǐ）蒸發鍍膜機、磁控濺鍍膜機射、
MBE分（fèn）子束外延鍍（dù）膜機和（hé）PLD激光濺射沉積鍍膜機等（děng）很多種。

主要是分（fèn）成蒸（zhēng）發和濺射兩（liǎng）種。
在真空（kōng）鍍膜（mó）設備中需要鍍膜的被成為基（jī）片，鍍的材料被成為靶材。
基片與靶（bǎ）材同在真空腔中。
蒸發鍍膜一般是加（jiā）熱靶材使表麵組分以原子團或（huò）離（lí）子形式被蒸發出來，並且沉降在基片表麵，通過成膜過程形成（chéng）薄（báo）膜。

真空鍍膜機對於（yú）濺（jiàn）射類（lèi）鍍膜，可以簡單（dān）理解為利用（yòng）電（diàn）子或高能激光轟擊靶材（cái），並使表麵組分以原子團或離子形式被濺（jiàn）射出來，
並且最終沉積在基片（piàn）表麵，經曆成膜過程，最終形成薄膜。爐體可選（xuǎn）擇由不鏽鋼、碳鋼或它們的組合製成的雙層水冷結（jié）構。

根據工藝要求選擇不同規格及類型鍍膜（mó）設備，其類型有電阻蒸（zhēng）發（fā）真空鍍膜設備、電子束蒸發真空鍍膜設備、
磁控（kòng）濺（jiàn）射真空鍍膜設備、離子鍍真空鍍膜設（shè）備、磁控（kòng）反應濺射（shè）真空鍍膜設備、空心陰極離子鍍和多弧離子鍍等。
夾具運轉形式有自轉、公（gōng）轉及公轉+自轉方式，用戶可根據片尺寸及形狀提出相應（yīng）要求，轉動的（de）速度範（fàn）圍及轉（zhuǎn）動精度：普通可調及變頻（pín）調速等。