氣體的分布狀（zhuàng）況（kuàng）對於（yú）平板基片鍍（dù）膜來說是極其重要的，通過機械結構設計，使氣體密度的變（biàn）化率在濺射沉積區域內的盡量小。

而在區域（yù）外，使（shǐ）係（xì）統的流導盡量的大，以提高氣體的利用率和抽（chōu）氣係統的效率。

控製氣（qì）體分布的機械部件或結構包括布氣係統、真空（kōng）室的結構、抽氣係統等三個部分。