磁控濺射鍍膜技術介紹
作者： 來源： 日期：2020-06-08 9:18:10 人氣：19506
磁控濺射鍍膜（mó）設備是一種具有結構簡單、電器控製穩定性好等優點的真空鍍膜（mó）機，其工藝技術的選擇（zé）對薄膜的性能具有重要影響。
磁控濺射鍍膜技術在陶瓷表麵裝飾中采用的工藝流（liú）程如下（xià）：
陶瓷片→超聲清洗→裝夾→抽（chōu）本底真空→plasma清洗→加熱→通氬氣→預濺射→抽本底真空→濺射(或多次濺射)→鍍AF膜→破（pò）真空卸片→表麵（miàn）檢驗→性能測試→包（bāo）裝、入庫（kù）。
以（yǐ）上工藝技術是以磁控濺射鍍膜設備（bèi）為基礎，選用合適的靶材和（hé）濺（jiàn）射工藝，製出超硬的耐磨鍍層，可以實（shí）現材料的高硬度、高耐磨、高耐（nài）劃傷特性；
同時，利用NCVM光學膜結構設計，設（shè）計出各層不同折射（shè）率材料，可（kě）以（yǐ）調配出任意顏（yán）色，使得陶瓷不僅（jǐn）硬度高、強度高，具備外觀件時尚、美觀的特點，而且不會（huì）屏蔽電磁信號。
磁控（kòng）濺射鍍膜設備（bèi）配合NCVM工藝（yì），能夠實現對於陶（táo）瓷電子消費品（pǐn）的表麵裝（zhuāng）飾處理，在保證陶瓷強度和硬度的（de）同時，也能夠提升其美觀性和藝術性，更好地滿足消費者的個（gè）性化需求（qiú）。
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