CJ係列磁控濺射真空鍍膜機的磁控（kòng）濺射工作（zuò）原理，所謂（wèi）“濺（jiàn）射”就是用荷能粒子（通常用氣體正離子）轟擊物體，從（cóng）而引起物體表（biǎo）麵原子（zǐ）從母體中逸出（chū）的現象。早在1842年（nián）Grove在實驗室中就發現了這種現象。磁控濺射靶采用靜止電磁場，磁場為（wéi）曲線形，均勻電場和對數電場則分別用於（yú）平麵靶和同（tóng）軸（zhóu）圓柱（zhù）靶。電子在電場（chǎng）作用下，加速（sù）飛向基片的過程中與氬原子發生碰撞。若電子具（jù）有足夠（gòu）的能量（約為30ev）時，則電離出Ar+並產生電子，電子飛向基片，Ar+在電場作用下，加速飛向陰極（濺射靶）並以高能量轟擊靶表麵，使靶（bǎ）材發生濺射。 

廣（guǎng）泛應用於家電電器、鍾表、高爾夫球頭、工藝美術品、玩具、車燈反光罩、手機（jī）按鍵外殼以及儀器儀表、塑料、玻璃、陶瓷、磁磚等表麵裝飾（shì）性（xìng）鍍膜及工模具的功能塗（tú）層，在鍍製超黑（hēi）膜、純金裝飾膜、導（dǎo）電膜等（děng）領域有（yǒu）優勢。

1）、膜厚可控性和重（chóng）複性好（hǎo）。能夠（gòu）可靠的鍍製預定厚度的薄膜，並且濺射鍍膜可以在較大（dà）的表麵上獲得厚度均勻的膜層；
2）、薄膜與基片的附著力強。部分高能量的濺射（shè）原子產生不（bú）同程度的注入現象，在基片上形成一層濺射原子（zǐ）與基片原子相互溶合的偽擴散層；
3）、製備特殊材料（liào）的薄膜，可以使用不同的材料同時濺射製備混合膜、化合膜，還可濺射成（chéng）TiN仿金膜；
4）、膜層純度（dù）高，濺（jiàn）射膜（mó）層中不會混入坩鍋加（jiā）熱器材料的成份。
5 )、裝備低溫離子輔助源，無需加熱直接常溫冷鍍成膜，節能省電，提高產能。