HL係列多弧離(lí)子真空鍍膜機

日期:2016-01-13 10:01:54 人氣:114062
HL係列多弧離子真空鍍膜機

工作原理

HL係列多弧離子真(zhēn)空鍍膜機工作原理是把真空弧光放電技(jì)術用於蒸發源的技術(shù),即在真空環境下引燃蒸(zhēng)發源(陰極),與陽極之間形成自持(chí)弧光放電,既從陰極弧光輝點放出陰極物質的離(lí)子。由(yóu)於電流局部的集中,產生的焦(jiāo)耳熱使陰極材料局部的爆發(fā)性地等離子化,在工件偏壓的作用下與反應氣體化合,而沉積在(zài)工件表麵上形成被鍍的膜(mó)層。

應用範圍

1、鍾表行業(表帶(dài)、表殼、表盤等)
2、五金行業(衛生潔具、門把手、拉手、門鎖等)
3、建築行業(不鏽鋼(gāng)板、樓梯扶手、立柱等)
4、精密模具業(衝棒(bàng)標準件模具、成型模具等)
5、工具行業(鑽頭、硬質合金、銑刀、拉刀、刀頭(tóu))
6、汽車工業(活塞、活塞環、合金輪轂等)以(yǐ)及鋼筆(bǐ)、眼鏡等(děng)等,使其表麵得到既美觀又(yòu)耐磨的(de)功能性磨層。主要鍍製的膜層有:離子金、離子銀、氮化(huà)鈦膜、碳化鈦(tài)膜、氮化鋯膜、鈦鋁合(hé)金膜、氮化鉻以及(jí)RP鍍等超硬功能性金(jīn)屬膜,經離子鍍膜加工後的工件(jiàn),可以提高硬度、耐磨度,抗腐蝕和美化的作用。 
7、有(yǒu)色金屬製品(如銅、鋁、鋅、鎂等)不需水鍍直接鍍製膜層。

產品(pǐn)特點(diǎn)

1、裝備低溫離子輔助源,無需(xū)加熱直接常溫(wēn)冷鍍成膜(mó),節能省電(diàn),提高產能。
2、沉積(jī)速率高,鍍膜速(sù)度快,覆蓋領域廣(guǎng),可以在多種產品上鍍製各類裝飾膜或功能膜,是中、高端產品大量生產的適合設備。

技(jì)術(shù)參數表

HL係(xì)列多弧離子真空鍍膜機     
型號(hào)HL-600HL-800HL-1000HL-1200HL-1400HL-1500HL-1600
真空室尺(chǐ)寸 Φ600×800MMΦ800×1000MMΦ1000×1200MMΦ1200×1400MMΦ1400×1600MMΦ1500×1500MMΦ1600×1800MM
真空機組(zǔ)KT400擴散泵機組KT500擴散泵機組KT500擴散泵機組KT630擴散(sàn)泵機組雙KT630擴散泵機組雙KT630擴散泵機組雙KT630擴散泵機組
鍍膜係統專用多弧鍍膜電源+多功能孿生磁環弧靶(bǎ)+柱形弧靶(可(kě)選配)
輔助鍍膜係統低溫離子輔助源(除工具鍍外無需加溫係統)
充(chōng)氣係統質量流量計質量流(liú)量計質量流量(liàng)計質量流量計質量流量計質量流量計質量流量計
控製方式手動或全自動(dòng)手動或全自動手動或全(quán)自動(dòng)手動或全自動手動(dòng)或全自動手動或全自動手動(dòng)或(huò)全自動
抽(chōu)氣速率5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min
極限真空5X10-4Pa5X10-4Pa5X10-4Pa5X10-4Pa5X10-4Pa5X10-4Pa5X10-4Pa
備注以上設備參數僅(jǐn)做參考(kǎo),具體均按客戶實際工藝要求(qiú)設計訂做
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